Промыватель микропланшетов автоматический модель 3D-IW8

Прибор представляет собой полностью программируемое промывочное устройство для 96-ти луночных планшетов и держателя слайдов с биочипами «Fast Frame Multi-Slide Plate». Регулировка параметров заливки, замачивания, аспирации и встряхивания даёт возможность легко настроить систему как для обработки текущих типовых программ, так и для выполнения более сложных задач.

Прибор обеспечивает:

• Режим промывки.
• Режим полоскания.
• Режим перемешивания.
• Перекрестная отмывка.
• Возможность дополнительного перемешивания растворов во время выдержки между циклами работы.
• Возможность использования планшетов различных фирм путем автоматической корректировки глубины опускания откачивающей гребенки (под различную глубину лунок планшета).
• Режим промывки как плоскодонных, так и круглодонных планшетов и стрипов.
• Возможность создания собственных программ потребителя с изменяемыми параметрами.
• Запоминание программ работы.

Терминал контроля объема жидкости 4 CHW Logger предназначен для установки 3х емкостей промывочных растворов и одной емкости для слива. 4 CHW Logger снабжен весовым датчиком для определения степени заполнения емкостей.

В вошере установлены 50 программы поделенные по типам аспирации (см. рисунок слева):

• Тип 1 (1.0–1.9) IPF96 U/V для круглодонных и V-образных планшетов, аспирация по 1 точке.
• Тип 2 (2.0–2.9) IPF96 FLAT-2 для плоскодонных планшетов, аспирация по 2 точкам.
• Тип 3 (3.0–3.9) IPF96 FLAT-C для плоскодонных планшетов, аспирация по окружности лунки.
• Тип 4 (4.0–4.9) FastFRAME-2 для держателя слайда «FAST Frame Multi-Slide Plate» с квадратной геометрией лунок, аспирация по 2 точкам.
• Тип 5 (5.0–5.9) FastFRAME-C для держателя слайда «FAST Frame Multi-Slide Plate» с квадратной геометрией лунок, аспирация по периметру лунки.

* — Держатель слайда FAST Frame Multi-Slide Plate (производитель Schleicher&Shuel) или аналогичный планшет от других производителей удерживающий стандартные 25 × 76 мм стеклянные слайды.

Прибор предназначен для использования в закрытых лабораторных помещениях при температурах от +10 до +35°C и относительной влажности воздуха до 80% при +25°С, линейно уменьшающейся до 50% при 35°C.